一般在开发杂质分析方法时,怎么来证明没有杂质因为在检测波长下没吸收而漏检呢
分析方法

做3+3类仿制药时,分析部门自己开发的HPLC杂质检测方法,有个疑问对该分析方法,怎么保证没有超过报告限的杂质因为在检测波长下没有吸收而不出峰?

        还有个问题就是,面积归一化法,对检测峰面积小于0.05%的杂质峰不积分,会不会有漏洞?如果该杂质的相对矫正因子比较大,其含量也有可能超过0.1%的啊?

        不是分析人员,对分析不是很懂,还望不吝赐教

2015-11-06 13:48 套马汉子     
3个回答

针对“还有个问题就是,面积归一化法,对检测峰面积小于0.05%的杂质峰不积分,会不会有漏洞?如果该杂质的相对矫正因子比较大,其含量也有可能超过0.1%的啊?”的回答:你所说的这种情况首先应当定义为未知杂质,因为已知杂质是能够获得标准品并确定相对响应因子的。但是,对于未知杂质在杂质研究中一般按照响应因子为1.0做假设。以API为例,如果物料、中间体控制策略没有问题且有足够的纯化次数的话,一般情况下存在的杂质为API的类似物,其母核与API一致,不会存在发色团有较大差异导致的响应因子不一致的情况。如果为制剂,那么降解杂质的结构必须要确定,也就不存在响应因子不确定的情况。

2016-01-21 15:22 吴龙昊     

对于杂质分析,本人觉得有两个方法你可以试试,第一是参考原料合成工艺中所用到的起始原料,进行分析,这里的起始原料就有可能是成最终产品的杂质成分,可以购买这些杂质对照品,在相同系统条件下,进行杂质分析;还有一种方法就是做一个PDA,对各个峰进行纯度分析,看有没有杂质被同一个峰覆盖,而造成杂质分析不全。

2015-11-30 13:06 Mwp     

首先,针对“怎么保证没有超过报告限的杂质因为在检测波长下没有吸收而不出峰?”这个问题,仅考虑检测波长,可以采用DAD扫描判断杂质的最大吸收波长;但杂质的检测方法应该建立在对合成及制剂工艺的深入理解上,以始为终,根据合成工艺和制剂工艺过程中可能引入的所有杂质进行分析,才会避免漏检,因为还有些杂质可能紫外不吸收,还需要其他类别的检测器。

“对检测峰面积小于0.05%的杂质峰不积分,会不会有漏洞?”可能会存在,也要根据上述的方法,对已知杂质情况有个基本判断,对未知杂质也无法从方法上做到无穷尽,本身0.1%也是一个相对认可的值,如果不是基因毒性等存在安全性问题严重的杂质,没有必要过于苛求。

仅供参考!

2015-11-11 10:14 识林-梧桐