按照中国GMP附录2：原料药，非无菌原料药精制、干燥、粉碎、包装等生产操作的暴露环境应当按照D级洁净区的要求设置。

目前有公司遇到这样的问题，原料药结晶釜只下半部分设计在D级区内，上半部分在非D级区内（原正常下无开罐操作）。现在结晶过程增加晶种投料，需要每批投约12公斤晶种。这样，就需要在非D级区打开结晶釜投料。现在有三种想法，1. 在D级区备好晶种，用真空吸入结晶釜；2. 在晶种投料口增加层流罩。3. 投料改成半密闭过程，尽量避免暴露。因为结晶釜很大，全部改到D级区很难，哪种方式比较合适，或者有更好的解决办法吗？